फॉर्मिक ऍसिड ९४%
प्रक्रिया
आम्ही सर्वात प्रगत मिथाइल फॉर्मेटद्वारे फॉर्मिक ऍसिड तयार करतो
तंत्रज्ञान.सर्वप्रथम, उत्प्रेरकाच्या क्रियेने सीओ आणि मिथेनॉलपासून मिथाइल फॉर्मेट तयार केले जाते.ठराविक तापमान आणि दाबाखाली, मिथाइल फॉर्मेट फॉर्मिक ऍसिडमध्ये हायड्रोलायझ केले जाते.वेगवेगळ्या गरजा पूर्ण करण्यासाठी कमी शुद्धतेचे फॉर्मिक ऍसिड सोल्यूशन उच्च द्रावणांवर केंद्रित केले जाईल-
ग्राहकांचे म्हणणे.
प्रतिक्रिया समीकरण:HCOOCH3+H2O HCOOH+CH3OH उत्पादन
अर्ज
1. लेटेक्स उद्योग: कोग्युलेशन इ.
2. फार्मास्युटिकल उद्योग: कॅफीन, एनालगिन,
Aminopyrine, Aminophyl-line, Theobromine bomeol, व्हिटॅमिन B1,Metronidazole, Mebendazole, इ.
3. कीटकनाशक उद्योग: ट्रायडिमेफॉन, ट्रायझोलोन,
ट्रायसायक्लाझोल, ट्रायझोल, ट्रायझोफॉस, पॅक्लोब्युट्राझोल, सुमॅजिक, डिसइन्फेस्ट, डिकोफोल इ.
4.केमिकल उद्योग:कॅल्शियम फॉर्मेट, सोडियम फॉर्मेट, अमोनियम फॉर्मेट, पोटॅशियम फॉर्मेट, इथाइल फॉर्मेट, बेरियम फॉर्मेट, DMF, फॉर्मामाइड, रबर अँटिऑक्सिडेंट, पेंटेएरिथ्राइट, निओपेंटाइल ग्लायकोल, ESO, 2-इथी!इपॉक्सिडाइज्ड सोयाबीन तेलाचे हेक्साइल एस्टर, पिव्हॅलॉयल क्लोराईड,
पेंट रिमूव्हर, फेनोलिक राळ, स्टील उत्पादनाची ऍसिड क्लीनिंग, मिथेन अमाइड इ.
5.लेदर उद्योग: टॅनिंग, डिलिमिंग, न्यूट्रलायझर इ.
6. पोल्ट्री उद्योग: सायलेज इ.
7. इतर: छपाई आणि डाईंग mordant. Coloring देखील तयार करू शकतात
आणि फायबर आणि पेपरसाठी फिनिशिंग एजंट, प्लास्टीसायझर, फूड फ्रेशकीपिंग, फीड अॅडिटीव्ह इ.
8. उत्पादन cO: रासायनिक प्रतिक्रिया: HCOOH=(दाट H, So4catalyze) उष्णता=CO+H,O
9.Deoxidizer: As,Bi,Al,Cu,Au,Im,Fe,Pb, Mn, Hg,Mo, Ag,Zn, इ. चाचणी Ce, Re, Wo. सुगंधित प्राथमिक अमाईन, दुय्यम amine.dis- चाचणी करा. आण्विक WT आणि क्रिस्टलायझेशन चाचणीसाठी सॉल्व्हंट. मेथॉक्सिलची चाचणी करा.
10.सूक्ष्म विश्लेषणासाठी फिक्स-एर. फॉर्मेट.केमिकल क्लीनिंग एजंट, फॉर्मिक ऍसिड सीएल मुक्त आहेत, स्टेनलेस स्टील उपकरणे साफ करण्यासाठी वापरली जाऊ शकतात
आयटम |
| ||
९०% | |||
श्रेष्ठ | प्रथम श्रेणी | पात्र | |
फॉर्मिक ऍसिड, w/% ≥ | 90 | ||
रंग/हॅझेन(Pt-Co)≤ | 10 | 20 | |
पातळ करणे (नमुना+पाणी=1十3) | साफ | चाचणी पास | |
क्लोराईड्स(Cl म्हणून)w/%≤ | 0.0005 | ०.००२ | ०.००२ |
सल्फेट्स(SO4 म्हणून)w/%≤ | 0.0005 | ०.००१ | ०.००५ |
लोखंड(Fe म्हणून)w/%≤ | 0.0001 | 0.0004 | 0.0006 |
बाष्पीभवन अवशेष w/% ≤ | ०.००६ | ०.०१५ | ०.०२ |